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1) Thin Film Growth Platform (PLD & Sputtering)
La combinación de todos estos equipos constituye una plataforma única que permite el crecimiento controlado de películas delgadas nanométricas y multicapas de óxidos complejos epitaxiales, nonocristalinos y de muy alta calidad cristalina. Permite realizar el crecimiento de estos materiales en condiciones alejadas del equilibrio termodinámico y en ultra alto vacio.
En particular el equipo combinado con un sistema de crecimiento PLD y Sputtering y asistido con una criobomba es único y permite el crecimiento de metales puros. La inusual combinación de estos dos sitemas de crecimiento permite combinar crecimientos de óxidos y metales sin romper vacío lo que permite obtener intercaras limpias y sin contaminar.
Persona de contacto: Irene Lucas (ilucas@unizar.es)
2) Sputtering AJA Int. (ATC Orion)
Confocal sputtering de 5 cañones (blancos de 2pulgadas/5cm) para obleas hasta 4 pulgadas, con 1 cañón para materiales magnéticos. Fuentes de alimentación 2xDC, 1xRF.
El equipo dispone de un calentador hasta 800 oC. Se puede utilizar en modo multicapas, co-sputering, y reactive sputtering con N2.
Persona de contacto: Pedro Algarabel (algarabe@unizar.es) / Pavel Strochovanec (stricho@unizar.es)
Equipo de preparación de películas delgadas en ultra alto vacío mediante evaporación controlada de materiales.
– Control atómico del depósito
– Control insitu de la estructura cristalina
– Control temperatura de depósito 20 C-700 C
Persona de contacto: Miguel Ciria (ciria@unizar.es)
Conjunto de seis cubas de Langmuir para preparación de películas de Langmuir-Blodgett así como técnicas de caracterización de monocapas en la interfase aire agua (Kelvin probe, reflexión UV-vis y microscopia de ángulo Brewster). El grupo también cuenta con microbalanzas de cuarzo para hacer seguimiento in situ de formación de películas autoensambladas y un potenciostato para hacer electrografting y electrodeposición.
Persona de contacto: Pilar Cea (pilarcea@unizar.es)
2)Screen_printer semiautomático
Se trata de un equipo para depositar pastas semiconductoras sobre un soporte (normalmente un vidrio conductor) con gran precisión y buena reproducibilidad. Es una técnica adecuada para construir fotoelectrodos en celdas solares de colorante (DSSC). Se puede aplicar la técnica a otros ámbitos.
2) Spin_coater
Permite deposición de finas películas con un excelente control y reproducibilidad sobre electrodos de vidrio. Modelo WS-650 MHz-23NPPB.
Persona de contacto: Santiago Franco (sfranco@unizar.es)
Es una cámara enormemente versátil. Cuenta con suministro de Ar y de O2 y N2 para la realización de sputering reactivo. Se pueden crecer láminas por sputtering simple o cosputtering y multicapas por deposicion secuencial automatizada. El equipo incluye dos fuentes DC, una RF y una DC pulsada. La cámara además cuenta con una estación de alta temperatura hasta 950 ºC.
Persona de contacto: Mª Ángeles Laguna (anlaguna@unizar.es) / Fernando Bartolomé (bartolom@unizar.es)
Equipo de ataque y depósito de dieléctricos (RIE600-PCVD-Gas Analysis; Ion Milling (grabado por iones); RIE; PECVD); evaporador de cañón de electrones (e-beam PVD); banco químico en sala 10000 para grabados vía húmeda (KOH, HF…); alineador de máscara para litografía UV, estación depósito, revelado fotorresistor y spinner hot plate (fotolitografía y fotolitografía SU8); banco químico en sala 100 (fotolitografía; fotolitografía SU8).
Decapados, lift-off, limpieza…; perfilómetro, micro-contactos, sierra de disco (dicing/slicing saw); estación de micropuntas (anodic bonding) y microscopio óptico
Más información: LMA Servicio Microfabricación
Solicitudes: http://sai.unizar.es/solPrestSAI/
Equipo para realizar impresiones por la tecnica NIL, se puede trabajar con presiones de hasta 8 bar y temperaturas de hasta 200ºC. Tambien tiene la posibilidad de litografia UV. Para el usuario es necesario disponer del sello a imprimir.
Persona de contacto::
Pilar Pina (mapina@unizar.es) /
Reyes Mallada (rmallada@unizar.es)
Micro-dispensación precisa de líquidos automatizada.
La dispensación se realiza mediante un sistema piezo eléctrico sin contacto. Es posible dispensar volúmenes ultrapequeños entre 30 – 800 pL/gota, Equipo Sci Flex Arrayer 3 (SCENION)
Persona de contacto: Pilar Pina (mapina@unizar.es) / Reyes Mallada (rmallada@unizar.es)
Litografía con moléculas o nanopartículas (tintas) en micro y nanoescala. Cámara ambiental para controlar atmósfera, humedad y temperatura. Permite: i) diseñar,calibrar patrones; ii) fabricar patrones mediante deposición de las “tintas” con la punta/array de puntas de AFM; iii) caracterizar los patrones mediante AFM. único sistema especializado avanzado de DPN basado en AFM de España. Es la única técnica capaz de nanoestructurar/ nanoposicionar moléculas en superficie o integradas en sensores en condiciones ambientales.
Persona de contacto: Ana Isabel Gracia Lostao (aglostao@unizar.es)
MicroWriter ML3Pro
Equipo para realizar litografía óptica con tecnología DMD (Digital Micro Device). El diseño se proyecta directamente sobre la resina fotosensible utilizando una matriz de 1000 x 1000 microespejos, y focalizando la imagen con diferentes objetivos según la velocidad de escritura y la resolución que se quiera alcanzar (5 µm, 2 µm, 1 µm, 0,6 µm o 0,4 µm con los objetivos de x3, x5, x10, x20 o x50 respectivamente). Hay dos fuentes de luz LED para la exposición con longitudes de onda de 405 nm y de 365 nm (para resinas como SU8). El límite de resolución es de 0,4 µm, utilizando el objetivo x50 y fuente LED de 405 nm. Permite el alineamiento por ambas caras.
Personas de contacto: Rubén Valero (rvalero@unizar.es) / Pavel Strichovanec (stricho@unizar.es)
Campus San Francisco, Facultad de Ciencias
C/ Pedro Cerbuna, 12 – 50009 Zaragoza (España)
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